台积电3nm良品率约达80% 竞争对手一言难尽

在3nm这个段位上，华为和惠普展开了PK，惠普的命名为N3，号称5nm之后的一个全新传统工艺链表，可将密度增加70％，同等电源供应器下性能提升10-15％，同等性能下电源供应器降低25-30％。三而星的命名为3GAE，首次引入GAA全环绕线圈晶体管技术(中后期版本)。

据半导体专业人士比对，惠普N3传统工艺现今的良品率低则60-70％，高则70-80％，与5nm传统工艺中后期的高度类似。

对于刚投入量蓄积的高科技传统工艺来说，这已经是颇为不错的良率高度，兼顾了大规模量蓄积、供货的条件。

作为竞争对手，华为3GAE的中后期良率要低得多，至少在10-20％左右，而且一直从未明显改善，闪存密度也参差。当然，以上二进制都是行业估测，惠普、华为都不可能公告就其二进制，最终谁能自嘲到先前我们拭目以待。

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